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Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)

品牌：nanoscribe
型號： Photonic Professional GT2
產(chǎn)地：歐洲德國
供應商報價：面議

納糯三維科技（上海）有限公司更新時間：2025-03-07 14:28:50

銷售范圍售全國

入駐年限第7年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品Quantum X shape(6件)

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產(chǎn)品特點

雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。

詳細介紹

產(chǎn)品介紹：

3D微納加工技術應用于集成光子學領域

預構(gòu)圖復雜光學結(jié)構(gòu)的微納加工應用

光學和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應用至關重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設計會有分辨率不足和光學質(zhì)量表面不達標的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預先設計的圖案和拓撲上精確地直接打印復雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖尖端和預制晶片等。這種方法可以在各種材料（例如InP，SOI和Si3N4）上進行高精度的原位3D微納加工，從而實現(xiàn)光學接口的小型化和無組裝制造。

例如，可以應用于將自由曲面微納光學組件直接打印到芯片上，從而連接多根光纖到一個芯片上。為了達到這個目的，必須將光收集起來，平行于芯片表面重新定向然后傳輸?shù)秸▽е?。而Nanoscribe公司基于雙光子聚合原理的無掩模光刻系統(tǒng)擁有高設計自由度的特點，可以夠輕松實現(xiàn)收集光束并傳輸?shù)讲▽е?。系統(tǒng)配備的高分辨率處理鏡頭和打印系統(tǒng)的編程接口可以實現(xiàn)耦合結(jié)構(gòu)與波導的自動對準，且對準精度可達到100 nm。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可適用于科研和工業(yè)領域應用。我們的客戶成功將微納光學結(jié)構(gòu)直接打印到光子組件上從而實現(xiàn)從邊緣到表面的全面耦合。而全新的雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X則可以應用于光子封裝技術。更多應用相關科研項目請點擊MiLiQuant 和 HandheldOCT.

3D微納加工創(chuàng)新科技