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Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備

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產(chǎn)品特點

Quantum X新型超高速無掩模光刻技術(shù)的核心是Nanoscribedu家ZL的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)。該技術(shù)將灰度光刻的zhuo越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性wan美結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。

詳細(xì)介紹

Nanoscribe第一款工業(yè)級高速灰度光刻微納打印系統(tǒng) - Quantum X

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展 LASER World of Photonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng) Quantum X ,并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界No.1基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。該系統(tǒng)的面世代表著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的Quantum X無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。


Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)技術(shù)要點

這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到j(luò)ing準(zhǔn)同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。


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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng) - 多種獨特智能化解決方案
·配備自動識別匹配不同物鏡,樣品架以及樹脂的功能,有助于樣品制備和硬件配置之間的切換,從而加快整個工作流程。

·配備從始至終的智能軟件向?qū)Чδ埽院喕瘡淖畛鯗?zhǔn)備到創(chuàng)建打印作業(yè)的整個流程。

·配備三個實時監(jiān)控攝像頭可同時監(jiān)管打印作業(yè)并支持直觀操作?,F(xiàn)在用戶可以直接在內(nèi)置觸控屏上隨時檢查作業(yè)狀態(tài),控制打印過程并可隨時顯示和調(diào)整打印效果。


技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)地:德國全進(jìn)口

打印技術(shù):雙光子灰度光刻 (2GL)

三維橫向特征尺度:160nm

**分辨率:400nm

最小表面粗糙度:≤10nm

激光掃描速度:≤250mm/s


納糯三維科技(上海)有限公司作為Nanoscribe全資子公司擴大了銷售范圍,并加強了售后服務(wù)支持。

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