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產(chǎn)品中心

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離子濺射儀

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產(chǎn)品特點(diǎn)

整體含濺射主機(jī)和真空系統(tǒng)組成,濺射靶頭被設(shè)置成為一個(gè)二級(jí)濺射結(jié)構(gòu),通過均勻恒定的電場(chǎng)激發(fā)并電離氣體分子,形成穩(wěn)定的輝光放電現(xiàn)象,被電離的離子和電子在這個(gè)電場(chǎng)下進(jìn)行加速,從而使靶原子逃離靶材表面在樣品上面形成納米涂層
配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家:

熱電(美國原荷蘭)FEI鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射、飛納臺(tái)式等各類型電子顯微鏡,蔡司(德國)鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射各系列的掃描電子顯微鏡,JEOL(日本電子)各類電鏡,日立(日本)各系列電鏡、臺(tái)式電鏡,TESCAN泰斯肯(捷克)各系列電鏡,還有如韓國“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理,提高成像質(zhì)量、增強(qiáng)導(dǎo)電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。

詳細(xì)介紹

官網(wǎng):www.tianzeler.ltd

天澤智能科技發(fā)展(天津)有限責(zé)任公司

1.顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn),方便觀察操作;

2.真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

3.微調(diào)閥調(diào)節(jié)靈敏準(zhǔn)確,帶有刻度標(biāo)識(shí);

4.真空泵抽速快,噪音低,適合實(shí)驗(yàn)室使用;

5.控制電路為控制板,工作穩(wěn)定可靠;

6.顯示控制操作部分布局合理,位于同側(cè),使用方便;

7.結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠,布局合理,維修操作空間大;

8.采用定制“凹”密封,更加方便操作。

  1. 石英處理室:

Φ150mm,高度110mm;

Φ108mm,高度135mm;

  1. 濺射類型:(選一)

1.冷陰極磁控型二級(jí)濺射;

2.高壓直流二級(jí)濺射

3.高壓直流二級(jí)濺射升級(jí)版

  1. 試樣臺(tái)尺寸:Φ40-150mm,樣品杯插孔19-61個(gè)可選;

  2. 樣品更換:設(shè)有支撐結(jié)構(gòu),上蓋打開可獨(dú)立支撐,

  3. 金靶尺寸:Φ50或φ57mm;

  4. 真空系統(tǒng):靜音直聯(lián)旋片真空泵2L/S;

  5. 真空檢測(cè):定制皮氏計(jì),配合真空指針表,靈敏可靠;

  6. 真空保護(hù):20pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空;

  7. 真空泄壓:自動(dòng)進(jìn)排氣(無需手動(dòng)放氣閥)。

  8. 電路保護(hù):過載保護(hù)

  9. 工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進(jìn)氣口和微量充氣節(jié);

    桌面型熱蒸發(fā)鍍碳儀:

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 新型磁控低溫離子鍍膜儀


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主要功能:

 

 

      電子在電場(chǎng)的作用下,飛向基片過程中與氣體原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出氣體正離子和新的電子;新電子飛向基片,離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),被束縛在靶表面特定區(qū)域,增強(qiáng)電離效率,增加離子密度和能量,從而實(shí)現(xiàn)高速率濺射。

主要應(yīng)用:

適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜(金膜、鉑金、銀、鎳、銅等),儀器操作簡(jiǎn)單方便,是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣必備的儀器。是制備低維度,小尺寸納米材料器件的必備實(shí)驗(yàn)手段,廣泛應(yīng)用于集成電路,光子晶體,低維半導(dǎo)體、微生物、超微膜材料等領(lǐng)域。

配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家:

熱電(美國原荷蘭)FEI鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射、飛納臺(tái)式等各類型電子顯微鏡,蔡司(德國)鎢絲陰極、場(chǎng)發(fā)射各系列的掃描電子顯微鏡,JEOL(日本電子)各類電鏡,日立(日本)各系列電鏡、臺(tái)式電鏡,TESCAN泰斯肯(捷克)各系列電鏡,還有如韓國“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理,提高成像質(zhì)量、增強(qiáng)導(dǎo)電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。

離子濺射儀性能指標(biāo)及各系統(tǒng)組成

 

 

 

項(xiàng)目

說明

產(chǎn)品名稱

自動(dòng)低溫磁控離子濺射儀

型號(hào)

TZZN-1000DCK,TZZN-100,TZZN-200

容積、重量和尺寸

艙室尺寸

φ150X110 (mm),φ108X135毫米

外形尺寸

主機(jī):約450X330X235mm;包裝尺寸:560X450X345

真空泵: 約480X135X200;包裝尺寸:580X215X367mm

重量

43㎏

噪音

65db以內(nèi)(離機(jī)臺(tái)正面1米并離地面1.2米處測(cè)量)

功率

約500W

電流

約10A

 

 

供電條件和電源

 

AC220V +保護(hù)接地

電壓允許波動(dòng)范圍:10%

頻率允許波動(dòng)范圍:(50±0.5)HZ

TN-S方式供電或TT方式供電

保護(hù)地線接地電阻小于4Ω

性能指標(biāo)保證

功能保障

1.(空氣)室內(nèi)空間潔凈干燥;

2.可選配純凈氬氣氣源

3.按流程操作

理論膜厚計(jì)算

涂層的厚度

    一般來說,用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100—300 ?,經(jīng)驗(yàn)的厚度測(cè)定可由下面的公式得到:

         d=KIVt

    其中d是以“?!睘閱挝坏腻兡ず穸?。

    K是常數(shù),取決于濺射金屬和所充氣體,此時(shí)靶與樣品之間的距離大約是5cm。

    I是等離子流的單位mA。

    V是以“KV“為單位所施電壓(1.68KV)。

    t是以秒為單位的時(shí)間。

采用金靶和氬氣時(shí)K為0.17,如用空氣K為 0.07。因此對(duì)于典型的濺射。

例如:I為8mA,t為100秒則,d=KIVt=0.17′8′100=136   ?

即每秒1.36 ?

濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度,因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。

 

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服務(wù)承諾

 

1.  質(zhì)保期限:

到貨之日起,為期一年。

2.  安裝調(diào)試:

(1.)提供視頻安裝資料,電話和微信遠(yuǎn)程指導(dǎo)安裝和調(diào)試。

(2.)上門安裝調(diào)試(需協(xié)商)

3.  可提供的服務(wù)方式:

熱線應(yīng)答:由專業(yè)工程師通過溝通、幫助、指導(dǎo)、解決、排除故障
現(xiàn)場(chǎng)服務(wù):由工程師在最短的時(shí)間內(nèi)到達(dá),以最快的方式排除故障。(需協(xié)商)
人性化服務(wù):尊重以人為本的服務(wù)理念,提供超過客戶期望值的服務(wù)。
遠(yuǎn)程服務(wù):在客戶授權(quán)的前提下,通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程指導(dǎo)技術(shù)人員在客戶現(xiàn)場(chǎng)處理。
定期巡檢服務(wù):不定期由公司領(lǐng)導(dǎo)和ZS工程師帶隊(duì),對(duì)客戶進(jìn)行巡檢,廣泛征求意見以求客戶滿意化。

4.  包裝及運(yùn)輸方式:

1.包裝:滿足QB/BWD008-2001之要求的運(yùn)輸包裝箱

2.輸方式:公路貨運(yùn)物流

 

 

升級(jí)型                                                                             低溫磁控型

                                               

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