ME-series

光譜橢偏儀

通過橢偏參數(shù)、透射/反射等參數(shù)測量

實現(xiàn)各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學常數(shù)快速表征

產品優(yōu)勢

? 專業(yè)光譜橢偏儀解決方案

? 超高精度、快速無損測量

? 系列配置靈活，支持功能定制設計

? 豐富的材料數(shù)據庫與算法模型庫

? 可根據不同應用場景支持多功能模塊定制化 配置

技術規(guī)格

SE-VM

高精度光譜橢偏儀測量解決方案

可實現(xiàn)科研/企業(yè)級高精度快速光譜   橢偏測量，支持多角度，微光斑等高 兼容性靈活配置，多功能模塊定制化 設計，廣泛應用于光通訊/OLED/TP/  透明導電膜等涉及透明襯底鍍膜測量表征應用。

SE-VE

經濟型光譜橢偏儀解決方案

滿足科研級/企業(yè)級絕大多數(shù)薄膜光   譜橢偏高性價比測量需求，快速表征 薄膜膜厚以及光學常數(shù)等，對于常規(guī) 單拋Si/InP/GaAs等襯底鍍膜可實現(xiàn)一鍵測量。

SE-VF

微區(qū)測量光譜橢偏解決方案

搭配圖像識別系統(tǒng)可以滿足科研/企業(yè) 級各種待測對象微區(qū)Pattern的高精度  快速光譜橢偏測量需求

ME-MappingMapping

光譜橢偏測量解決方案

滿足大尺寸基片多點自定義繪制化光 譜橢偏測量需求，支持尺寸定制，實時離線檢測并輸出膜厚形貌分布以及數(shù)據報告，廣泛應用于設備廠商/Fab 級鍍膜均勻性快速測量表征

超微光斑橢偏測量解決方案 

SE-m 光譜橢偏儀

針對微區(qū)測量定制開發(fā)的 專用型光譜橢偏儀

可用于針對各類不同厚度襯底 (可低至微米級)上的減反膜、導電膜等薄膜的n/k/d測量，完 美適用于微區(qū)圖形的各種光學參數(shù)解析。

原位橢偏測量解決方案 

SE-i 光譜橢偏儀

針對有機/無機鍍膜工藝研究   的需要開發(fā)的原位薄膜在線監(jiān) 測中的定制化橢偏測量頭

可用于金屬薄膜、無機薄膜、有機 薄膜的蒸鍍、濺射等光學薄膜工藝 過程的實時原位在線監(jiān)測并實時反 饋測量物性數(shù)據。

核心優(yōu)勢

?   可定制光斑尺寸，最小可達30um

?   超快測量，單次測量時間小于0.5秒

?   系列配置靈活，支持功能定制設計

?   結構緊湊，更適應在線集成測量

光伏專用橢偏解決方案 SE-PV 光譜橢偏儀

針對光伏行業(yè)絨面單晶硅或多 晶硅太陽電池表面減反膜測量 定制開發(fā)的光伏專用型光譜橢 偏儀

集成電路在線解決方案 

半導體自動光譜橢偏儀

采用最 新一代穆勒矩陣式膜厚&OCD測量頭，可針對晶圓片工藝段的二維/三維結構特征或整 體形貌快速無損表征，精 準獲取半導體制造工藝中單層或多層薄膜結構參數(shù)信息。

顯示面板在線解決方案 

面板在線橢偏測厚儀

針對LCD 、 OLED 等新型平板顯示量產中所涉及的PI 配向膜、光刻膠薄膜、 ITO薄膜、有機發(fā)光薄膜、

有機/無機封裝薄膜等質量控制需要而定制在線薄膜測量系統(tǒng)。

應用領域

?   集成電路

?   光伏電池

?   LED

?   OLED

?   生物化學

?   科學研究

?   二維材料

?   光通訊

?   玻璃蓋板