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Accurion EP4 成像橢偏儀
- 品牌:Park原子力顯微鏡
- 型號(hào): Accurion EP4
- 產(chǎn)地:亞洲 韓國(guó)
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià):面議
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Park原子力顯微鏡公司
更新時(shí)間:2024-04-08 10:16:50
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銷售范圍售全國(guó)
入駐年限第10年
營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品成像光譜橢偏儀(2件)
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詳細(xì)介紹
- Accurion EP4成像橢偏儀
Accurion EP4
成像橢偏儀
EP4是新一代的成像橢偏儀,它有機(jī)地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù)。這使得我們能夠在小至1μm的微結(jié)構(gòu)上以橢偏儀的靈敏度表征薄膜厚度和折射率。顯微鏡部分能夠同時(shí)測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)全視場(chǎng)范圍內(nèi)的所有結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)的橢偏儀注重于測(cè)量整個(gè)光斑,而不能實(shí)現(xiàn)高精度的橫向分辨率,并且需要逐點(diǎn)測(cè)量。
EP4的顯微鏡功能使得我們能夠獲得微觀結(jié)構(gòu)的橢偏增強(qiáng)對(duì)比圖像。在相機(jī)的實(shí)時(shí)圖像中可以看到折射率或厚度的微小變化。允許識(shí)別橢偏測(cè)量的感興趣區(qū)域(選區(qū)測(cè)量),以獲得厚度(0.1 nm-10μm)和折射率的值。單次測(cè)量就可以獲取厚度和折射率橫向變化的3D圖。
各種聯(lián)用技術(shù),例如原子力顯微鏡(AFM)、石英晶體微天平(QCM-D)、反射式測(cè)量?jī)x、拉曼光譜儀等等,可以對(duì)同一區(qū)域進(jìn)行原位分析。
另有在各種受控溫度和氣氛環(huán)境下測(cè)量的附件可選。
主要功能
模塊化配置:從布魯斯特角顯微鏡、單波長(zhǎng)成像橢偏儀、多波長(zhǎng)成像橢偏儀、全光譜成像橢偏儀,在不同配置之間可輕松升級(jí)。
波長(zhǎng)范圍190/250/360nm至1000/1700/2700 nm的光譜成像橢偏儀
橫向分辨率低至1um,可測(cè)量小至1um的微結(jié)構(gòu)的厚度和折射率
用于樣品實(shí)時(shí)可視化觀測(cè)的橢偏增強(qiáng)對(duì)比度圖像
先圖像識(shí)別樣品,然后再測(cè)量:在實(shí)時(shí)視場(chǎng)中直觀地選擇測(cè)量區(qū)域(選區(qū)測(cè)量)
所選視場(chǎng)內(nèi)多個(gè)區(qū)域(多個(gè)選區(qū))的平行測(cè)量
光斑切割技術(shù),消除橢偏測(cè)量的背底反射
多種附件可選,如電化學(xué)池、溫度控制或液體處理樣品池,滿足多種測(cè)量需求
質(zhì)量控制:提供OEM版本用于產(chǎn)品線中的質(zhì)量控制
技術(shù)
成像橢偏技術(shù)(IE)
Accurion成像橢偏儀將橢偏儀和光學(xué)顯微鏡的優(yōu)點(diǎn)有機(jī)地結(jié)合在一起。這兩種技術(shù)的統(tǒng)一創(chuàng)造了一種特有的計(jì)量工具,它重新定義了橢偏儀和偏光顯微鏡。成像橢偏儀增強(qiáng)的空間分辨率(約1μm)將橢偏測(cè)量擴(kuò)展到微觀分析、微電子和生物分析的新領(lǐng)域。
成像橢偏法簡(jiǎn)介
成像橢偏法是一種全光學(xué)、非接觸式測(cè)量技術(shù),適用于微結(jié)構(gòu)薄膜樣品和基底樣品的膜層厚度測(cè)量和材料表征。
該技術(shù)將顯微鏡成像與光譜橢偏測(cè)量技術(shù)相結(jié)合。使空間分辨率達(dá)到1μm,輕松突破了傳統(tǒng)橢偏儀、反射儀等其他光學(xué)測(cè)量工具的極限。
橢偏測(cè)量的原理是基于樣品與偏振光的相互作用。測(cè)量獲得的偏振參數(shù)通過計(jì)算建模轉(zhuǎn)化為樣品的物理特性圖像,如膜層厚度、折射率和吸收系數(shù)、粗糙度或各向異性等數(shù)據(jù)。
什么是成像橢偏技術(shù)?
成像橢偏技術(shù)結(jié)合了光學(xué)顯微鏡和橢圓偏振技術(shù),可針對(duì)微結(jié)構(gòu)薄膜和基底進(jìn)行空間分辨層的厚度和進(jìn)行折射率的測(cè)量。它是一種基于樣品與偏振光相互作用的全光學(xué)、無(wú)損測(cè)量技術(shù)。它對(duì)單層和多層超薄膜有著高度的敏感性,范圍從單原子或單分子層(亞納米范圍)到幾微米的厚度。
成像橢偏儀可生成測(cè)量的圖像。最突出的例子是層厚度圖,其中每個(gè)圖像像素都是測(cè)量的厚度值。(圖 1)。
成像橢偏儀以低至 1 μm 的空間分辨率進(jìn)行層厚度測(cè)量,輕松突破傳統(tǒng)橢偏儀的分辨率限制。不需要緊密的光束聚焦就能夠達(dá)到這種分辨率,并提供樣品的空間信息(例如層厚度分布),而無(wú)需在此過程中移動(dòng)和掃描樣品。
顯微鏡和橢偏法的結(jié)合還可以檢測(cè)圖像實(shí)時(shí)視圖中已有的薄膜厚度和折射率的微小變化,而無(wú)需運(yùn)行完整的橢偏測(cè)量(圖2)。這種橢偏對(duì)比增強(qiáng)顯微鏡 (ECM) 擁有非??焖偾曳€(wěn)定的性能,用于快速測(cè)繪應(yīng)用中的定性薄膜分析、質(zhì)量控制和缺陷檢測(cè)。
圖1:成像橢偏儀的應(yīng)用示例
圖 2:硅晶圓上 CVD 生長(zhǎng)的多層石墨烯島的橢偏對(duì)比圖像(ECM 圖像)。
與傳統(tǒng)的橢偏技術(shù)相比,成像橢偏技術(shù)有什么優(yōu)點(diǎn)?
成像橢偏儀的空間分辨率低至 1 μm,輕松突破傳統(tǒng)橢偏儀的分辨率限制。
單次測(cè)量即可創(chuàng)建包含超過 500000 個(gè)點(diǎn)的二維圖。 傳統(tǒng)的橢偏儀需要掃描并移動(dòng)樣品來(lái)測(cè)量二維平面圖。
固有的橢圓偏振增強(qiáng)顯微鏡 (ECM) 可以非??焖俚貦z測(cè)薄膜厚度和折射率變化,而無(wú)需運(yùn)行完整的橢圓偏振測(cè)量。
“先查找,后測(cè)量”。成像橢偏儀的圖像實(shí)時(shí)視圖可幫助您在橢偏測(cè)量之前識(shí)別感興趣的相關(guān)樣品位置。它甚至顯露微小的表面修飾,包括亞納米厚度臺(tái)階!在一些傳統(tǒng)橢偏儀中,使用“概覽相機(jī)”或“并行監(jiān)控像機(jī)” 是看不到這些特征的。因此,在搜索特定表面特征時(shí),這些相機(jī)不得不依賴耗時(shí)的區(qū)域掃描。
獲得專 利的感興趣區(qū)域概念(ROI 概念)允許將測(cè)量和數(shù)據(jù)分析集中在視野內(nèi)的選定特征上。
空間分辨率與探測(cè)光斑尺寸無(wú)關(guān)。因此,不需要嚴(yán)格的光束聚焦。
成像橢偏儀是什么樣子的?
圖 1:成像橢偏儀的特征組件
基本幾何形狀類似于任何橢偏儀的典型設(shè)置:光源和偏振控制器安裝在儀器的一個(gè)“臂”上,提供以傾斜入射角 (AOI) 照射樣品的光束。探測(cè)光束從樣品反射或透過樣品,并由另一個(gè)“臂”收集以進(jìn)行偏振分析和強(qiáng)度檢測(cè)。 兩個(gè)“臂”都安裝在機(jī)械高精度測(cè)角儀上,以在不同的 AOI 處探測(cè)樣品。
成像橢偏儀的顯著特點(diǎn)是在檢測(cè)“臂”中使用成像組件(圖 1)。位于樣品和偏振分析儀之間的顯微鏡物鏡在數(shù)字圖像檢測(cè)器(CMOS相機(jī)的CCD)上創(chuàng)建被照明的樣品表面的放大圖像。該相機(jī)不僅用于監(jiān)控探測(cè)的樣品點(diǎn)(就像在常規(guī)橢圓偏振儀中那樣),而且相機(jī)像素本身就是用于橢圓偏振測(cè)量的光電探測(cè)器。
成像橢偏儀如何測(cè)量橢偏光譜?
成像橢偏儀按順序測(cè)量橢偏光譜。這意味著一次僅使用一種波長(zhǎng)/光子能量。對(duì)光譜的每個(gè)目標(biāo)波長(zhǎng)自動(dòng)重復(fù)測(cè)量。
我們的光譜成像橢偏儀配備寬帶光源,例如激光穩(wěn)定氙燈、氙弧燈或超連續(xù)譜激光器,并結(jié)合光柵單色儀、濾色輪或聲光可調(diào)諧濾波器 (AOTF)。
成像橢偏儀是如何工作的?
圖 1:CVD 生長(zhǎng)的石墨烯島 - 測(cè)量的橢偏顯微照片(Δ-Ψ-圖,左)和 石墨烯層厚度圖(右)從基于模型的 Δ 和 Ψ 像素級(jí)平移獲得。
圖 2:PCSA 配置中成像橢偏儀的示意圖設(shè)置。
圖 3:歸零橢圓偏振原理。
圖4:旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏儀原理。
成像橢偏儀延續(xù)了傳統(tǒng)橢偏儀的測(cè)量原理:它們測(cè)量樣品引起了探測(cè)光束偏振的變化。這種變化被轉(zhuǎn)化為每個(gè)探測(cè)光子能量的兩個(gè)實(shí)數(shù),即所謂的橢圓參數(shù) Δ (“Delta”)和Ψ(“Psi”)。 通過計(jì)算樣品建模,這些參數(shù)轉(zhuǎn)化為感興趣的樣品屬性,例如:一層或多層的厚度、折射率和/或吸收率。
然而,與傳統(tǒng)的橢偏儀相比,成像橢偏儀在調(diào)制探測(cè)偏振態(tài)和/或偏振分析儀(偏振調(diào)制)時(shí)采集顯微鏡圖像堆棧(而不是“僅”強(qiáng)度值)。相機(jī)的每個(gè)像素都充當(dāng)單獨(dú)的光電探測(cè)器,從而并行測(cè)量超過 500 000 條強(qiáng)度曲線。然后顯微鏡圖像的每個(gè)像素返回一個(gè)測(cè)量值Δ 和 Ψ,從而形成了所謂的 Δ-Ψ-圖。因此,計(jì)算模型現(xiàn)在提供了像素級(jí)的轉(zhuǎn)換 Δ-Ψ-圖模型擬合結(jié)果的空間分辨顯微照片,特別是厚度圖和/或折射率圖(圖。1)。
Accurion 的成像橢偏儀應(yīng)用所謂的PCSA(偏振器、補(bǔ)償器、樣品、分析器):偏振控制(或偏振狀態(tài)發(fā)生器,PSG)包括線性偏振器和用于相位延遲的波片(“補(bǔ)償器”)。偏振分析器(或偏振態(tài)分析器,PSA)位于顯微鏡物鏡和圖像檢測(cè)器之間,僅包含一個(gè)線性偏振器(圖2)。
三個(gè)偏振組件(P、C、A)安裝在電動(dòng)空心軸旋轉(zhuǎn)器上,用于偏振調(diào)制。 Accurion 的成像橢偏儀采用以下方法: 歸零橢偏儀和旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏儀。在這兩種情況下,采集的圖像堆棧的每個(gè)像素都會(huì)產(chǎn)生一條強(qiáng)度曲線,該曲線是所應(yīng)用的 P、C 和 A 旋轉(zhuǎn)角度設(shè)置的函數(shù):
歸零橢偏儀 (NE):歸零模式迭代地旋轉(zhuǎn)偏振器 (P) 和檢偏器 (A) 以檢測(cè)相對(duì)強(qiáng)度最小值的角位置,以便計(jì)算 Δ 和 Ψ(圖3)。 這是各種橢圓偏振模式中高度 精 準(zhǔn)的,對(duì)于檢測(cè)折射率和/或?qū)雍穸鹊奈⑿∽兓ɡ鐔卧踊騿畏肿訉与A)特別有用。
旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏儀 (RCE):RCE 測(cè)量相機(jī)信號(hào)作為補(bǔ)償器旋轉(zhuǎn)角度的函數(shù)(圖 4)。它是市場(chǎng)上常見的橢圓偏振模式之一,因?yàn)樗梢詫?duì)所有類型的樣品進(jìn)行快速測(cè)量。
成像橢偏儀的一個(gè)突出特點(diǎn)是在單個(gè)儀器中提供這些互補(bǔ)的橢偏儀模式。
什么是光譜成像橢偏儀?
圖 1:光譜成像橢偏儀獲取的高光譜圖堆棧的圖示。
圖 2:橢圓光譜示例顯示對(duì)表面層輕微變化的敏感性增加。
光譜成像橢偏儀測(cè)量樣品的橢偏特性作為探測(cè)波長(zhǎng)(或光子能量)的函數(shù)。它產(chǎn)生高光譜 Δ-Ψ-圖,其中每個(gè)圖像像素都包含測(cè)量的橢圓光譜(圖 1)。光譜測(cè)量是實(shí)現(xiàn)薄膜樣品完整且高精度表征的通用方法(圖 2)。因此,它們?cè)谶^去二十年中已成為成像橢偏儀的標(biāo)準(zhǔn)用例。我們的大多數(shù)成像橢偏儀都配備了光譜測(cè)量功能。
得益于數(shù)碼相機(jī)技術(shù)的進(jìn)步和寬帶光學(xué)組件的定制設(shè)計(jì),Accurion 提供適用于電磁波譜的紫外線 (UV)、可見光 (VIS) 和紅外線 (IR) 部分各種光譜范圍的光譜成像橢偏儀。用于寬帶測(cè)量的高端成像橢偏儀可以配備多達(dá)三個(gè)不同的相機(jī),以覆蓋從紫外線到紅外線的整個(gè)光譜范圍。
成像橢偏儀的數(shù)據(jù)分析是如何進(jìn)行的?
圖 1:橢圓偏振測(cè)量和數(shù)據(jù)分析的流程圖
圖 2:通過基于模型的 Δ 和 Ψ 像素級(jí)平移獲得的 CVD 生長(zhǎng)的多層石墨烯島的測(cè)量橢偏顯微照片(Δ-Ψ 圖,左)和層厚圖(右)。
圖3:成像橢偏儀的應(yīng)用示例
圖 4:光譜成像橢偏儀獲取的高光譜圖堆棧的圖示。
成像橢偏技術(shù)本質(zhì)上與常規(guī)橢偏技術(shù)有著相同的數(shù)據(jù)分析程序。測(cè)量得到的 Δ-Ψ-圖主要用作傳輸量,從中計(jì)算出感興趣的物理樣品屬性,例如層厚度、折射率和/或吸收率。 一般來(lái)說,這些值是從計(jì)算樣本建模中獲得的,其中包含未知樣本屬性作為浮動(dòng)參數(shù),并將模型與測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行比較。通過回歸分析,模型得出自由參數(shù)的最 終值,從而產(chǎn)生計(jì)算模型和測(cè)量數(shù)據(jù)的優(yōu)質(zhì)匹配(圖1)。
此外,(高光譜)Δ-Ψ-圖 還攜帶樣品表面的結(jié)構(gòu)信息(畢竟,它們是顯微鏡圖像?。?,這些信息將被非成像測(cè)量忽略。這允許將橢偏數(shù)據(jù)分析與顯微鏡和高光譜成像的圖像分析工
整個(gè) Δ-Ψ-圖 可以轉(zhuǎn)換成物理樣品屬性的圖像,例如顯示整個(gè)測(cè)量表面的層厚分布的圖像(圖 2)。
直方圖、橫截面和線輪廓等工具有助于識(shí)別結(jié)構(gòu)不規(guī)則性、評(píng)估值分布并區(qū)分階梯狀和梯度表面特征(例如層厚階梯和梯度;圖 3)。
測(cè)量后可以提取任何像素組的光譜,例如分別分析成像樣品表面不同部分的層厚度和材料特性(圖4)。
圖像本身可能會(huì)揭示意想不到的表面特性,例如殘留的清潔污染物或損壞,可能會(huì)扭曲建模結(jié)果,例如在常規(guī)(非成像)橢偏儀中。
什么是橢偏測(cè)量法?
Figure 1: Schematic of an ellipsometer setup
Figure 2: Superposition of reflected beams by a thin-film layer sample.
Figure 3: Orientations of the linear p- and s-polarizations in the coordinate system of an ellipsometer.
橢圓偏振技術(shù)是一種非破壞性的表面表征光學(xué)技術(shù)。它通過以傾斜入射角 (AOI) 照射偏振電磁輻射(“光”)來(lái)探測(cè)樣品。所施加的光子能量通常在電磁波譜的紫外線到紅外線部分的范圍內(nèi)。橢圓偏振技術(shù)可檢測(cè)并量化探測(cè)光束偏振橢圓的任何變化(因此稱為“橢圓偏振技術(shù)”),這種變化可能在樣品表面反射時(shí)發(fā)生(圖 1)。
橢圓偏振測(cè)量對(duì)樣品表面的任何變化都高度敏感。 特別是,橢圓光度法擅長(zhǎng)表征平坦、反射樣品表面上的透明或半透明薄膜涂層。厚度低于 1 nm 的薄膜層(即單原子層或單分子層)也可以作為厚度為幾微米的層或?qū)佣询B進(jìn)行測(cè)量。
為了達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)的準(zhǔn)確度和精密度,橢圓偏振測(cè)量法發(fā)揮了什么技巧?它歸結(jié)為兩個(gè)關(guān)鍵要素:
干涉透明或半透明薄膜層內(nèi)多次反射引起的現(xiàn)象導(dǎo)致反射電磁波的幅度和相位對(duì)薄膜層厚度及其折射率的依賴性非常強(qiáng)(圖2)。
探測(cè)樣品偏振光和在傾斜興趣區(qū)可以獲取不同入射偏振狀態(tài)的(相對(duì))相位變化。該信息在垂直入射或缺乏偏振控制時(shí)會(huì)丟失(圖 3)。
雖然反射測(cè)量等其他光學(xué)計(jì)量技術(shù)僅使用反射光束的強(qiáng)度(即反射波的振幅)來(lái)進(jìn)行薄膜表征,但橢圓光度測(cè)量還可以獲取樣品引起的探測(cè)波的(相對(duì))相移。這種額外的相靈敏度最 終為薄膜層表征帶來(lái)了出色的精度和靈敏度。
橢圓測(cè)量將樣品的偏振特性轉(zhuǎn)化為每個(gè)探測(cè)光子能量的兩個(gè)實(shí)數(shù),即我們說的橢圓測(cè)量參數(shù) Δ(“Delta”,相位信息)和 Ψ(“Psi”,幅度信息)。
為了理解這些量的詳細(xì)含義,我們需要引入樣品表面偏振電磁(EM)波鏡面反射的數(shù)學(xué)描述。一般來(lái)說,入射電磁波的振幅和相位會(huì)因反射而改變。然而,在傾斜 AOI 中,p 偏振波和 s 偏振波的這些變化量是不同的(圖 3),因此我們可以寫為:
E'p 和 E's是復(fù)數(shù)(i 虛數(shù)單位),分別表示樣品表面反射之前和之后p偏振和s偏振電磁波的電場(chǎng)幅度和相位;rp,s 和 δp,s 分別是樣品引起的幅度和相位變化。
最 后,我們可以給出橢偏參數(shù)的數(shù)學(xué)定義 Δ 和 Ψ :
因此,Δ 是 p 偏振和 s 偏振電磁波的樣品引起的相位差,而 Ψ 量化樣品引起的這些波的振幅變化的比率。
橢偏測(cè)量法是如何工作的?
圖 1:橢圓偏振測(cè)量和數(shù)據(jù)分析的流程圖
圖 2:橢圓偏振儀的基本設(shè)置
任何橢偏樣品表征至少包括兩個(gè)步驟:
第 一步,橢圓偏振儀測(cè)量樣品引起的偏振變化,每個(gè)探測(cè)光子能量可以將其轉(zhuǎn)化為兩個(gè)實(shí)數(shù)。 這些就是所謂的橢偏參數(shù) Δ(“Delta”)和 Ψ(“Psi”)。 這些參數(shù)可以理解為所研究的樣品如何與偏振光相互作用的“指紋”。
第二步,測(cè)量值 Δ 和 Ψ 用于計(jì)算感興趣的樣品屬性,例如層厚度、折射率和/或吸收率。 專門的數(shù)據(jù)分析軟件使用樣本的計(jì)算模型來(lái)計(jì)算預(yù)期值 Δ 和 Ψ 并將其與測(cè)量值進(jìn)行比較。 然后將感興趣的屬性用作浮動(dòng)參數(shù),以找到實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和模型數(shù)據(jù)的優(yōu)質(zhì)匹配。因此,橢圓光度術(shù)是一種基于模型的(間接)光學(xué)厚度和折射率測(cè)量技術(shù)。
為了執(zhí)行橢偏測(cè)量,任何橢偏儀設(shè)置至少由四個(gè)組件組成:光源、偏振態(tài)發(fā)生器 (PSG)(由一些偏振光學(xué)器件組成并放置在樣品之前)、偏振態(tài)分析儀 (PSA); 更多偏振光學(xué)器件)放置在樣品后面的光束路徑中,以及光電探測(cè)器。 PSG 和 PSA 分別控制和分析探測(cè)光和反射光的偏振態(tài)。
Δ-和Ψ-值的測(cè)量基于針對(duì)偏振控制和/或偏振分析(偏振調(diào)制)的不同設(shè)置的一系列強(qiáng)度測(cè)量。根據(jù)這些強(qiáng)度值以及 PSG 和 PSA 的已知設(shè)置,可以直接計(jì)算 Δ- 和 Ψ- 值。
PSG 和 PSA 設(shè)計(jì)有多種類型,應(yīng)用的偏振調(diào)制模式甚至更多。 Accurion 的橢偏儀采用非常常見的設(shè)計(jì),即使用線性偏振器和四分之一波片(λ/4 板)作為 PSG,以及使用單一線性偏振器作為 PSA。對(duì)于偏振調(diào)制,他們應(yīng)用了以下技術(shù)歸零橢偏儀和旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器橢偏儀。