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2025-03-07 19:32:00魔技納米
魔技納米科技有限公司是一家在三維微納制造領(lǐng)域集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè)。公司的核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)擁有超過十年的設(shè)備研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，專注于生物醫(yī)療、光電通信、新材料、微納器件等多個(gè)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域，致力于開發(fā)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的商用納米級(jí)三維激光光刻直寫制造系統(tǒng)。

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2022-04-24 16:42:23納米多孔氧化鋁
本品為化學(xué)法合成的白色球形粉末，無重金屬、 無放射性元素。物理指標(biāo)①晶相 γ相②AI2O3含量 ≥99.9③ 介孔 0.38④ 原晶粒度 50-60納米化學(xué)指標(biāo)①本品用于噴墨打印紙的涂層， 為紙張?zhí)岣吖鉂伞＂趬埣油苛系哪湍バ?，具有助流?提高上粉率、防結(jié)塊等特點(diǎn)應(yīng)用范圍①導(dǎo)熱硅膠②電子灌封膠③粉末涂料公眾號(hào)搜索粉體圈，聯(lián)系報(bào)價(jià)。聯(lián)系方式：400-869-9320轉(zhuǎn)8990更多信息進(jìn)入店鋪查看：https://www.360powder.com/shop.html?shop_id=1727
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2023-04-20 09:37:22BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta
BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及 Zeta 電位分析儀——背向 + 90°散射粒度 + Zeta 電位三合一型儀 器 簡(jiǎn) 介BeNano 180 Zeta Pro 納米粒度及Zeta電位分析儀是BeNano 90+BeNano 180+BeNano Zeta 三合一的頂 級(jí)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)中集成了背向 +90°動(dòng)態(tài)光散射 DLS、電泳光散射 ELS和靜態(tài)光散射技術(shù) SLS，可以準(zhǔn)確的檢測(cè)顆粒的粒徑及粒徑分布，Zeta 電位，高分子和蛋白體系的分子量信息等參數(shù)，可廣泛的應(yīng)用于化學(xué)、化工、生物、制藥、食品、材料等領(lǐng)域的基礎(chǔ)研究和質(zhì)量分析與控制。指標(biāo)與性能Index＆performance粒徑測(cè)試原理：動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)粒徑范圍：0.3 nm – 15 μm樣品量：3 μL - 1 mL檢測(cè)角度：173°+90°+12°分析算法：Cumulants、通用模式、CONTIN、NNLSZeta電位測(cè)試原理：相位分析光散射技術(shù)檢測(cè)角度：12°Zeta范圍：無實(shí)際限制電泳遷移率范圍：> ±20 μ.cm/V.s電導(dǎo)率范圍：0 - 260 mS/cmZeta測(cè)試粒徑范圍：2 nm – 110 μm分子量測(cè)試分子量范圍：342 Da – 2 x 107 Da微流變測(cè)試頻率范圍：0.2 – 1.3 x 107 rad/s測(cè)試能力：均方位移、復(fù)數(shù)模量、彈性模量、粘性模量、蠕變?nèi)崃空扯群驼酃饴蕼y(cè)試粘度范圍：0.01 cp – 100 cp折光率范圍：1.3-1.6趨勢(shì)測(cè)試模式：時(shí)間和溫度系統(tǒng)參數(shù)溫控范圍：-15° C - 110° C+/- 0.1°C冷凝控制：干燥空氣或者氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)激光光源：50 mW 高性能固體激光器， 671 nm相關(guān)器：最快25 ns采樣，最多 4000 通道，1011 動(dòng)態(tài)線性范圍檢測(cè)器：APD （高性能雪崩光電二極管）光強(qiáng)控制：0.0001% - 100%，手動(dòng)或自動(dòng)軟件中文和英文符合21CFR Part 11原理圖儀器檢測(cè)檢測(cè)參數(shù)顆粒體系的光強(qiáng)、體積、面積和數(shù)量分布顆粒體系的 Zeta 電位及其分布分子量分布系數(shù) PD.I擴(kuò)散系數(shù) D流體力學(xué)直徑 D H顆粒間相互作用力因子 k D溶液粘度檢測(cè)技術(shù)動(dòng)態(tài)光散射電泳光散射靜態(tài)光散射
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2022-07-14 15:06:51淺談掃描俄歇納米探針
簡(jiǎn)介        掃描俄歇納米探針，又稱俄歇電子能譜（Auger Electron Spectroscopy，簡(jiǎn)稱AES）是一種表面科學(xué)和材料科學(xué)的分析技術(shù)。根據(jù)分析俄歇電子的基本特性得到材料表面元素成分（部分化學(xué)態(tài)）定性或定量信息。可以對(duì)納米級(jí)形貌進(jìn)行觀察和成分表征。近年來，隨著超高真空和能譜檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展，掃描俄歇納米探針作為一種極為有效的表面分析工具，為探索和研究表面現(xiàn)象的理論和工藝問題，做出了巨大貢獻(xiàn)，日益受到科研工作者的普遍重視。俄歇電子能譜常常應(yīng)用在包括半導(dǎo)體芯片成分表征等方向發(fā)展歷史        近年來，固體表面分析方法獲得了迅速的發(fā)展，它是目前分析化學(xué)領(lǐng)域中最活躍的分支之一。它的發(fā)展與催化研究、材料科學(xué)和微型電子器件研制等有關(guān)領(lǐng)域內(nèi)迫切需要了解各種固體表面現(xiàn)象密切相關(guān)。各種表面分析方法的建立又為這些領(lǐng)域的研究創(chuàng)造了很有利的條件。在表面組分分析方法中，除化學(xué)分析用光電子能譜以外，俄歇電子能譜是最重要的一種。目前它已廣泛地應(yīng)用于化學(xué)、物理、半導(dǎo)體、電子、冶金等有關(guān)研究領(lǐng)域中。        俄歇現(xiàn)象于1925年由P.Auger發(fā)現(xiàn)。28 年以后，J.J.Lander從二次電子能量分布曲線中第一次辨認(rèn)出俄歇電子譜線， 但是由于俄歇電子譜線強(qiáng)度低，它常常被淹沒在非彈性散射電子的背景中，所以檢測(cè)它比較困難。        1968年，L.A.Harris 提出了一種“相敏檢測(cè)”方法，大大改善了信噪比，使俄歇信號(hào)的檢測(cè)成為可能。以后隨著能量分析器的完善,使俄歇譜儀達(dá)到了可以實(shí)用的階段。         1969年圓筒形電子能量分析器應(yīng)用于AES, 進(jìn)一步提高了分析的速度和靈敏度。        1970年通過掃描細(xì)聚焦電子束,實(shí)現(xiàn)了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖)，出現(xiàn)了掃描俄歇微探針儀器。        1972年，R.W.Palmberg利用離子濺射，將表面逐層剝離，獲得了元素的深度分析，實(shí)現(xiàn)了三維分析。至此，俄歇譜儀的基本格局已經(jīng)確定， AES已迅速地發(fā)展成為強(qiáng)有力的固體表面化學(xué)分析方法，開始被廣泛使用?；驹?nbsp;       俄歇電子是由于原子中的電子被激發(fā)而產(chǎn)生的次級(jí)電子。當(dāng)原子內(nèi)殼層的電子被激發(fā)形成一個(gè)空穴時(shí)，電子從外殼層躍遷到內(nèi)殼層的空穴并釋放出光子能量；這種光子能量被另一個(gè)電子吸收，導(dǎo)致其從原子激發(fā)出來。這個(gè)被激發(fā)的電子就是俄歇電子。這個(gè)過程被稱為俄歇效應(yīng)。Auger electron emission        入射電子束和物質(zhì)作用，可以激發(fā)出原子的內(nèi)層電子。外層電子向內(nèi)層躍遷過程中所釋放的能量，可能以X光的形式放出，即產(chǎn)生特征X射線，也可能又使核外另一電子激發(fā)成為自由電子，這種自由電子就是俄歇電子。對(duì)于一個(gè)原子來說,激發(fā)態(tài)原子在釋放能量時(shí)只能進(jìn)行一種發(fā)射：特征X射線或俄歇電子。原子序數(shù)大的元素，特征X射線的發(fā)射幾率較大，原子序數(shù)小的元素，俄歇電子發(fā)射幾率較大，當(dāng)原子序數(shù)為33時(shí)，兩種發(fā)射幾率大致相等。因此，俄歇電子能譜適用于輕元素的分析。        如果電子束將某原子K層電子激發(fā)為自由電子，L層電子躍遷到K層，釋放的能量又將L層的另一個(gè)電子激發(fā)為俄歇電子，這個(gè)俄歇電子就稱為KLL俄歇電子。同樣，LMM俄歇電子是L層電子被激發(fā)，M層電子填充到L層，釋放的能量又使另一個(gè)M層電子激發(fā)所形成的俄歇電子。        只要測(cè)定出俄歇電子的能量，對(duì)照現(xiàn)有的俄歇電子能量圖表，即可確定樣品表面的成份。由于一次電子束能量遠(yuǎn)高于原子內(nèi)層軌道的能量，可以激發(fā)出多個(gè)內(nèi)層電子，會(huì)產(chǎn)生多種俄歇躍遷，因此,在俄歇電子能譜圖上會(huì)有多組俄歇峰，雖然使定性分析變得復(fù)雜，但依靠多個(gè)俄歇峰,會(huì)使得定性分析準(zhǔn)確度很高，可以進(jìn)行除氫氦之外的多元素一次定性分析。同時(shí),還可以利用俄歇電子的強(qiáng)度和樣品中原子濃度的線性關(guān)系,進(jìn)行元素的半定量分析,俄歇電子能譜法是一種靈敏度很高的表面分析方法。其信息深度為5nm以內(nèi),檢出限可達(dá)到0.1%atom。是一種很有用的分析方法。系統(tǒng)組成        AES主要由超高真空系統(tǒng)、肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍、CMA同軸式筒鏡能量分析器、五軸樣品臺(tái)、離子槍等組成。以ULVAC-PHI的PHI 710舉例，其核心分析能力為25 kV肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子源，與筒鏡式電子能量分析器CMA同軸。伴隨著這一核心技術(shù)是閃爍二次電子探測(cè)器、 高性能低電壓浮式氬濺射離子槍、高精度自動(dòng)的五軸樣品臺(tái)和PHI創(chuàng)新的儀器控制和數(shù)據(jù)處理軟件包：SmartSoft AES ? 和 MultiPak ?。并且，目前ULVAC-PHI的PHI 710可以擴(kuò)展冷脆斷樣品臺(tái)、EDS、EBSD、BSE、FIB等技術(shù)，深受廣大用戶認(rèn)可。PHI710激發(fā)源，分析器和探測(cè)器結(jié)構(gòu)示意圖：        為滿足當(dāng)今納米材料的應(yīng)用需求，PHI 710提供了最高穩(wěn)定性的 AES 成像平臺(tái)。隔聲罩、 低噪聲電子系統(tǒng)、 穩(wěn)定的樣品臺(tái)和可靠的成像匹配軟件可實(shí)現(xiàn) AES對(duì)納米級(jí)形貌特征的成像和采譜。        真正的超高真空（UHV）可保證分析過程中樣品不受污染，可進(jìn)行明確、準(zhǔn)確的表面表征。測(cè)試腔室的真空是由差分離子泵和鈦升華泵（TSP）抽氣實(shí)現(xiàn)的。肖特基場(chǎng)發(fā)射源有獨(dú)立的抽氣系統(tǒng)以確保發(fā)射源壽命。最新的磁懸浮渦輪分子泵技術(shù)用于系統(tǒng)粗抽，樣品引入室抽真空，和差分濺射離子槍抽氣。為了連接其他分析技術(shù)，如EBSD、 FIB、 EDS 和BSE，標(biāo)配是一個(gè)多技術(shù)測(cè)試腔體。         PHI 710 是由安裝在一個(gè)帶有 Microsoft Windows ? 操作系統(tǒng)的專用 PC 里的PHI SmartSoft-AES 儀器操作軟件來控制的。所有PHI電子光譜產(chǎn)品都包括執(zhí)行行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的 PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件用于獲取數(shù)據(jù)的最大信息。710 可應(yīng)用互聯(lián)網(wǎng)，使用標(biāo)準(zhǔn)的通信協(xié)議進(jìn)行遠(yuǎn)程操作。AES的應(yīng)用        掃描俄歇納米探針可分析原材料（粉末顆粒，片材等）表面組成，晶粒觀察，金相分布，晶間晶界偏析，又可以分析材料表面缺陷如納米尺度的顆粒物、磨痕、污染、腐蝕、摻雜、吸附等，還具備深度剖析功能表征鈍化層，包覆層，摻雜深度，納米級(jí)多層膜層結(jié)構(gòu)等。AES的分析深度4-50 ?，二次電子成像的空間分辨可達(dá) 3納米，成分分布像可達(dá)8納米，分析材料表面元素組成 （Li ~ U），是真正的納米級(jí)表面成分分析設(shè)備?？蓾M足合金、催化、半導(dǎo)體、能源電池材料、電子器件等材料和產(chǎn)品的分析需求。AES 應(yīng)用的幾種例子，從左到右為半導(dǎo)體FIB-cut，鋰電陰極向陶瓷斷面分析小結(jié)本文小編粗淺的介紹了俄歇電子能譜AES的一些基礎(chǔ)知識(shí)，后續(xù)我們還會(huì)提供更有價(jià)值的知識(shí)和信息，希望大家持續(xù)關(guān)注“表面分析家”！
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2023-04-25 09:25:28Nicomp? 在線粒度儀用于納米藥物粒度監(jiān)測(cè)
在過去的幾十年中，納米醫(yī)學(xué)研究發(fā)展迅速，大部分重 點(diǎn)放在藥物輸送上。納米顆粒具有降低毒性和副作用等優(yōu)點(diǎn)，控制這些納米粒子的大小至關(guān)重要。Nicomp系列的大部分粒度測(cè)量是在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行的，但現(xiàn)在已經(jīng)有在生產(chǎn)線中進(jìn)行粒度測(cè)量的產(chǎn)品——Nicomp? 在線粒度儀。本應(yīng)用說明介紹了 Bind Therapeutics（輝瑞于 2016 年收購的資產(chǎn)）開展的開創(chuàng)性工作，將Nicomp? 在線動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量納入其 Accurins? 納米粒子候選藥物的制造過程。引言BIND Therapeutics, Inc. 是一家生物制藥公司，開發(fā)稱為 Accurins（見圖 1）的靶向納米粒子技術(shù)，用于治 療癌癥和其他具有大量未滿足醫(yī)療需求的嚴(yán)重疾病。通過結(jié)合控釋聚合物系統(tǒng)、靶向和遞送大量治 療藥物的能力，Bind 正在為一類新型靶向治 療開發(fā)一個(gè)納米技術(shù)支持的平臺(tái)。圖 1. BIND Accurins 技術(shù)Accurins 通常是 80-120 nm 的顆粒，由具有活性藥物成分 (API) 核心的聚丙交酯聚乙二醇 (PLA-PEG) 共聚物組成。共聚物的 PLA 部分為包封疏水性 API 提供了一個(gè)可生物降解的、相對(duì)疏水的核心。聚合物的親水性聚乙二醇酯部分期望覆蓋在顆粒的表面，使它們能夠逃避網(wǎng)狀內(nèi)皮系統(tǒng)(RES)吞噬細(xì)胞的調(diào)理和從血液循環(huán)中移除。80-120 nm 的大小非常適合通過滲漏的脈管系統(tǒng)（增強(qiáng)的通透性和滯留性，或 EPR 效應(yīng)）積聚在腫瘤部位，同時(shí)避免被脾 臟過濾。80-120 nm也是適合所需理化特性的尺寸，可保持高載藥量、控制釋放和加工能力，包括最 終無菌過濾和凍干的能力。Accurins 是通過納米乳液工藝制造的，該工藝使用高壓均化來剪切分散在不混溶水相中的有機(jī)液滴?？刂埔旱纬叽鐚?duì)于確定藥品的最 終尺寸分布十分重要。許多因素會(huì)影響液滴大小，包括原材料屬性、顆粒配方、均質(zhì)機(jī)機(jī)械性能、水相組成和工藝參數(shù)。該批次開始生產(chǎn)后，均質(zhì)器壓力是最容易控制來調(diào)節(jié)尺寸的過程。BIND 014 是一種 Accurin，開發(fā)用于將多西紫杉醇遞送至實(shí)體瘤和癌細(xì)胞，表達(dá)前列腺特異性膜抗原 (PSMA)。這里描述的所有實(shí)驗(yàn)都是針對(duì) BIND-014 Accurins。在線動(dòng)態(tài)光散射動(dòng)態(tài)光散射 (DLS) 可用于測(cè)量亞微米顆粒尺寸，DLS 的工作原理是小顆粒通過布朗運(yùn)動(dòng)在流體中隨機(jī)移動(dòng)。系統(tǒng)檢測(cè)到布朗運(yùn)動(dòng)引起的平移擴(kuò)散，然后用于求解 Stokes-Einstein 方程以確定粒子大小（方程 1）。其中： D = 擴(kuò)散系數(shù) kB = 波爾茲曼常數(shù) η = 粘度 R = 粒子半徑Nicomp DLS 已在實(shí)驗(yàn)室中成功使用數(shù)十年，Nicomp?在線粒度儀也已有了實(shí)際應(yīng)用。Entegris （Nicomp粒度儀生產(chǎn)商）現(xiàn)在已在客戶制造業(yè)務(wù)中安裝了多個(gè)系統(tǒng)，用于在生產(chǎn)運(yùn)行期間跟蹤顆粒大小。在線系統(tǒng)從過程中取出樣品，稀釋樣品以避免多重散射效應(yīng)，測(cè)量樣品，然后重復(fù)該過程（見圖 2）。完整的測(cè)量周期約為 2 分鐘，為監(jiān)控制造操作的工藝工程師提供連續(xù)的粒度信息。圖 2. DLS 系統(tǒng)簡(jiǎn)圖，帶自動(dòng)稀釋實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)Entegris Nicomp?在線 DLS 系統(tǒng)安裝在高壓均質(zhì)器的下游，其設(shè)置使其能夠每約 2 分鐘從工藝流中獲取乳液樣品。設(shè)置 DLS 的射流系統(tǒng)，使乳液樣品以與下游 Accurin 過程類似的方式在水中稀釋，并在流通池中自動(dòng)稀釋至產(chǎn)生理想光散射強(qiáng)度（~300 kCt/秒）的濃度。此處描述了三個(gè)批次： 一個(gè)批次由 11 個(gè)過程樣品和可變壓力制成，在整個(gè)均質(zhì)化過程中，以建立壓力大小相關(guān)性。在工藝條件略有不同的情況下生產(chǎn)的批次導(dǎo)致前兩個(gè)工藝樣品的尺寸略小于目標(biāo)尺寸。調(diào)整壓力后，尺寸恢復(fù)到最 后四個(gè)樣品的目標(biāo)值。臨床規(guī)模開發(fā)批次在以約 5 分鐘的間隔采集的八個(gè)樣本期間展示穩(wěn)定的尺寸讀數(shù)，確認(rèn)壓力設(shè)定點(diǎn)是合適的。結(jié)果第 一個(gè)實(shí)驗(yàn)（圖 3 和圖 4）的結(jié)果顯示了我們預(yù)期的壓力與尺寸的關(guān)系。從趨勢(shì)線曲線擬合可以看出，尺寸對(duì)壓力的響應(yīng)為每 1,000 psig 約 9 nm。圖 3. 均質(zhì)機(jī)壓力與粒徑圖 4. 壓力與平均尺寸的相關(guān)性第二個(gè)實(shí)驗(yàn)的初始尺寸讀數(shù)低于目標(biāo)尺寸約 5–7 nm，因此進(jìn)行了壓力調(diào)整（降低 1,000 psig）。在稍后的時(shí)間點(diǎn)，平均粒徑按預(yù)期增加了 ~5–10 nm。圖 5. 均質(zhì)器壓力與粒徑最后一組數(shù)據(jù)來自使用在線分級(jí)器的第 一個(gè)臨床規(guī)模實(shí)驗(yàn)。盡管 BIND 有程序在尺寸超出我們的目標(biāo)范圍時(shí)根據(jù)需要調(diào)整壓力，但沒有必要這樣做。所有八次測(cè)量都非常接近 100 nm 目標(biāo)。圖 6. 批處理運(yùn)行期間的平均大小結(jié)論Nicomp? 在線 DLS 系統(tǒng)被集成到 Accurin 制造過程中，用于確定最佳條件并確保在整個(gè)批次中粒徑在所需規(guī)格范圍內(nèi)。進(jìn)行在線測(cè)量可減少進(jìn)行工藝更改與獲取評(píng)估更改是否產(chǎn)生預(yù)期效果所需的粒度數(shù)據(jù)之間的滯后時(shí)間。此外，與將樣品帶到實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行離線批量分析相比，在線分析可以更好地監(jiān)控產(chǎn)品質(zhì)量。在線 DLS 是一種有價(jià)值的過程分析技術(shù)。
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2022-03-02 12:59:25Palas? 重新定義納米測(cè)量
隨著人類活動(dòng)對(duì)環(huán)境影響的加劇，顆粒物群體逐漸龐大，威脅著生態(tài)環(huán)境和人們的健康。不管是常見的灰蒙蒙的天空，還是不時(shí)出現(xiàn)的霧霾天氣，其本質(zhì)正是由無處不在的顆粒污染物造成的。無論是室內(nèi)還是室外，空氣質(zhì)量的評(píng)估、治理和改善工作需要可靠的儀器加持。由Palas? 研發(fā)的U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀，集納米測(cè)量、操作靈活便捷、監(jiān)測(cè)結(jié)果精 準(zhǔn) 等諸多優(yōu)點(diǎn)于一身，適用于多種研究場(chǎng)景，可以有效測(cè)量和評(píng)估空氣污染程度。為監(jiān)測(cè)污染物排放和空氣質(zhì)量，研究人員選擇了U-SMPS在港口和機(jī)場(chǎng)進(jìn)行超細(xì)顆粒物監(jiān)測(cè)。Palas?超細(xì)粉塵和納米顆粒監(jiān)測(cè)研究人員使用Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀在港口進(jìn)行了輪船顆粒物的排放監(jiān)測(cè)。得益于U-SMPS直觀的界面和集成數(shù)據(jù)記錄器的獨(dú)立設(shè)備，可通過TeamViewer?，Windows等進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。大大的方便了研究人員的監(jiān)測(cè)進(jìn)程，從輪船開出的時(shí)間開始監(jiān)測(cè)，輔以數(shù)據(jù)展示了U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀在顆粒物總濃度納米顆粒物監(jiān)測(cè)方面的突出優(yōu)勢(shì)。研究人員還在機(jī)場(chǎng)進(jìn)行了超細(xì)顆粒物監(jiān)測(cè)，監(jiān)測(cè)的位置在機(jī)場(chǎng)航站樓距離飛機(jī)起降跑道400m的位置，在一般監(jiān)控的范圍（可見空中交通）監(jiān)測(cè)了平均顆粒物粒徑和顆粒物總濃度。U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀監(jiān)測(cè)到的顆粒物活動(dòng)范圍可追溯。精 準(zhǔn)數(shù)據(jù)，具備可比性在兩組應(yīng)用案例中，Palas? U-SMPS體現(xiàn)了高尺寸分辨率（120通道/十倍粒徑）的優(yōu)勢(shì)，通過使用系統(tǒng)軟件PDAnalyze，一鍵自動(dòng)保存數(shù)據(jù)無需外部數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)和無需額外同步設(shè)備時(shí)間，使顆粒物水平的變化清晰可見。同時(shí)可以自動(dòng)合并粒徑分布圖，得到直觀的數(shù)據(jù)結(jié)果。顆粒物監(jiān)測(cè)專家Palas?的納米設(shè)備擁有業(yè)內(nèi)先進(jìn)的測(cè)量技術(shù)，市面上單純的光學(xué)監(jiān)測(cè)只能測(cè)量到大于120nm以上的顆粒，而U-SMPS組合尺寸分布為4nm至40,000nm。Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀可靠的監(jiān)測(cè)結(jié)果可與校準(zhǔn)中心（TROPOS，萊比錫）媲美。儀器結(jié)合了準(zhǔn)確可靠的粒徑分析和計(jì)數(shù)功能，可提供靈活監(jiān)測(cè)設(shè)備。Palas?智能解決方案和緊密的客戶關(guān)系為傳統(tǒng)粒徑分析市場(chǎng)打開大門。Palas? U-SMPS掃描電遷移率粒徑譜儀產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)粒徑分布從4nm到1,200nm連續(xù)和快速掃描測(cè)量原理高分辨率，最多256通道（128通道/十倍粒徑）適用于高達(dá)108 顆粒/cm3的濃度可連接其他制造商的DMA和納米粒子計(jì)數(shù)器圖形顯示測(cè)量值直觀操作，使用7英寸觸摸屏和GUI集成數(shù)據(jù)記錄儀支持多種接口和遠(yuǎn)程訪問低維護(hù)功能可靠減少您的運(yùn)營費(fèi)用應(yīng)用領(lǐng)域過濾測(cè)試氣溶膠研究環(huán)境與氣候研究吸入實(shí)驗(yàn)室內(nèi)和工作場(chǎng)所測(cè)量
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