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原子力顯微鏡 NX20 高精度全自動大面積原子力顯微鏡

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產(chǎn)品特點

強大全面的分析能力,Park NX20具備的功能,可快速幫助客戶找到產(chǎn)品失效的原因,并幫助客戶制定出更多具有創(chuàng)意的解決方案。

詳細介紹

作為一款缺陷形貌分析的測量儀器,其主要目的是對大型樣品進行缺陷檢測。而儀器所提供的數(shù)據(jù)不能允許多種錯誤的存在。Park NX20,這款大尺寸樣品原子力顯微鏡,憑借著數(shù)據(jù)準確性,在半導體和超平樣品行業(yè)中大受贊揚,ParkNX20擁有業(yè)界便捷的設計和自動界面,讓你在使用時無需花費大量的時間和精力,也不用為此而時時不停的指導初學者。借助這一系列特點,您可以更加專注于解決更為重大的問題,


選項/模式

標準成像

電學性能測量

機械性能測試

?   真正非接觸式

?   接觸式

?   側向摩擦力顯微技術(LFM)

?   相位模式,輕敲模式


?   導電AFM(ULCA和VECA)

?   靜電力顯微鏡(EFM)

?   壓電力顯微鏡(PFM)

?   掃描電容顯微鏡(SCM)

?   掃描開爾文探針顯微鏡(KPFM)

?   掃描電阻顯微鏡(SSRM)

?   力調制顯微鏡(FMM)

?   (PFM)壓電力顯微鏡

?   力調制顯微鏡(FMM)

?   壓痕,納米刻蝕

?   相位成像

磁性能


熱性能

?   磁力顯微鏡(MFM)



?   掃描熱顯微鏡(SThM)


應用

用于失效分析和大型樣品研究的領先的納米計算工具,滿足各個領域的研究

缺陷檢查成像和分析

高分辨率電子掃描模式

對樣品合基片進行表面粗糙度測量

樣品側壁三維結構的測量


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