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韓國Nanobase 光電流成像系統(tǒng)PL_mapping_system
- 品牌:韓國Nanobase
- 型號: PL_mapping_system
- 產地:亞洲 韓國
- 供應商報價:面議
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上海昊量光電設備有限公司
更新時間:2025-05-26 16:04:05
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銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
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詳細介紹
光電流成像系統(tǒng),同時可用于拉曼光譜成像,熒光光譜成像。
u 獨特的激光掃描技術,具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復性
激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm
u 體相全息光柵光譜儀
光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號傳輸效率更高
u 具有Raman/PL/光電流等多種測量模式
u 結構緊湊,模塊化設計
u 掃描速度快,掃描范圍大
200μm x 200μm范圍內高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)
探針臺,拉曼光譜成像,PL,熒光光譜成像,光電流光譜成像,拉曼 mapping,PL mapping,photocurrent mapping,光電流mapping,熒光mapping
韓國Nanobase公司zui新推出的激光共聚焦光電流成像系統(tǒng)(光電流mapping)結合了探針臺和激光共聚焦成像系統(tǒng),不僅可以用作探針臺,還可以用于光電流成像,同事擴展支持拉曼光譜成像和熒光光譜成像,產品具有如下特點:
? 客制化,可升級設計
? 200μm x 200μm 大面積快速掃描成像 & 2D Mapping (x 40 objective)
? 采用VPHG體相全息光柵,光通過率高。
? 易于使用和維護
? 可升級至拉曼光譜成像和熒光光譜成像
光學參數(shù):
激發(fā)光源
445,532,635,808,1530nm等
顯微鏡(標配)
X40,NA=0.75
光譜范圍
30cm-1到6000cm-1
激光掃描
分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm
FOV:200μm x 200μm@40X物鏡
激光掃描光譜范圍
VIS:450-700nm
NIR 1:650-1050nmNIR 2: 1050-1550nm
探針臺參數(shù):
探針臺
6寸真空吸附卡盤,
光譜范圍
30cm-1到6000cm-1
XY方向移動范圍
150 x 150mm, 分辨率5um FOV:200μm x 200μm@40X物鏡
Z方向移動范圍
上/下10mm, 分辨率1um
探針頭
金,鎢
高精度定位器
PH-C15, 10fA leakage current 4SET
配備獨特的激光掃描裝置
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