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韓國Nanobase 光電流成像系統(tǒng)PL_mapping_system

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詳細介紹

光電流成像系統(tǒng),同時可用于拉曼光譜成像,熒光光譜成像。

u  獨特的激光掃描技術,具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復性

    激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm

u  體相全息光柵光譜儀

    光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號傳輸效率更高

u  具有Raman/PL/光電流等多種測量模式

u  結構緊湊,模塊化設計

u  掃描速度快,掃描范圍大

200μm x 200μm范圍內高速成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

 

探針臺,拉曼光譜成像,PL,熒光光譜成像,光電流光譜成像,拉曼 mapping,PL mapping,photocurrent mapping,光電流mapping,熒光mapping


韓國Nanobase公司zui新推出的激光共聚焦光電流成像系統(tǒng)(光電流mapping)結合了探針臺和激光共聚焦成像系統(tǒng),不僅可以用作探針臺,還可以用于光電流成像,同事擴展支持拉曼光譜成像和熒光光譜成像,產品具有如下特點:

 

? 客制化,可升級設計

? 200μm x 200μm 大面積快速掃描成像 & 2D Mapping (x 40 objective)

? 采用VPHG體相全息光柵,光通過率高。

? 易于使用和維護

? 可升級至拉曼光譜成像和熒光光譜成像

 

光學參數(shù):

激發(fā)光源

445,532,635,808,1530nm等

顯微鏡(標配)

X40,NA=0.75

光譜范圍

30cm-1到6000cm-1

激光掃描

分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm

FOV:200μm x 200μm@40X物鏡

激光掃描光譜范圍

VIS:450-700nm
  NIR 1:650-1050nm

NIR   2: 1050-1550nm

 

探針臺參數(shù):

探針臺

6寸真空吸附卡盤,

光譜范圍

30cm-1到6000cm-1

XY方向移動范圍

150 x 150mm, 分辨率5um FOV:200μm x 200μm@40X物鏡

Z方向移動范圍

上/下10mm, 分辨率1um

探針頭

金,鎢

高精度定位器

PH-C15, 10fA leakage current 4SET

 


配備獨特的激光掃描裝置


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