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德國(guó)TEM 光學(xué)頻率合成器-光頻梳EFO-COM

品牌：德國(guó)TEM
型號(hào)： EFO-COM
產(chǎn)地：歐洲德國(guó)
供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議

上海昊量光電設(shè)備有限公司更新時(shí)間：2025-05-26 16:04:05

銷售范圍售全國(guó)

入駐年限第10年

營(yíng)業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品光學(xué)頻率梳(11件)

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詳細(xì)介紹

光學(xué)頻率合成器——光頻梳

EFO-COMB是一種高精度的光學(xué)頻率合成器，設(shè)計(jì)用于多項(xiàng)研究和工業(yè)應(yīng)用，如原子激光冷卻，超精密長(zhǎng)度測(cè)量，光學(xué)時(shí)鐘，激光雷達(dá)，天文學(xué)，超穩(wěn)定微波發(fā)生器，頻率參考信號(hào)和時(shí)間戳的光學(xué)傳輸，紅外光譜等。

該光學(xué)合成器單元是一個(gè)交鑰匙裝置，包括一個(gè)摻鉺鎖模光纖激光器，該激光器具有穩(wěn)定的脈沖重復(fù)頻率和載波包絡(luò)偏置Fceo。梳狀發(fā)電機(jī)可以設(shè)計(jì)成參考射頻參考源(在1秒時(shí)提供5*10^-13的傳輸穩(wěn)定性)，以及光學(xué)參考系統(tǒng)(在1秒時(shí)下降到~1*10^-16)。

該系統(tǒng)有一個(gè)內(nèi)置的超連續(xù)譜發(fā)生器和一個(gè)用于穩(wěn)定Fceo的f-2f干涉儀。該標(biāo)準(zhǔn)單元具有4個(gè)低功耗光纖耦合輸出(約1560nm)，適用于各種應(yīng)用和各種可選功能的連接。全保偏光纖布局，確保交鑰匙不間斷運(yùn)行。一個(gè)獨(dú)立的控制機(jī)架包含了鎖相環(huán)單元、鎖相環(huán)單元、數(shù)據(jù)采集和顯示系統(tǒng)。

光學(xué)頻率合成器可以集成以下功能：

穩(wěn)定的超連續(xù)光譜梳在1000-2200nm范圍，高達(dá)200mW
穩(wěn)定的超連續(xù)光譜梳在500-1000nm范圍，高達(dá)80mW
單獨(dú)的窄帶輸出(s)與Δλ~ 2…5nm，在500-1000納米和1000-2200nm范圍內(nèi)的任何地方
高功率輸出1560nm，高達(dá)250mW, Frep和Fceo穩(wěn)定
高功率輸出在780nm，高達(dá)100mW，F(xiàn)rep和Fceo穩(wěn)定
拍頻檢測(cè)單元(BDUs)在梳狀發(fā)生器的光頻和外部連續(xù)波激光器之間提供射頻拍頻信號(hào)
鎖相環(huán)單元，用于穩(wěn)定外部連續(xù)波激光器到梳狀發(fā)生器的光學(xué)頻率
頻率范圍為10MHz到10GHz的超穩(wěn)射頻輸出
差分頻率發(fā)生器(DFG)(如3400 nm)

產(chǎn)品規(guī)格：

EFO-COMB
Comb spacing (Frep)	100 MHz
Stability with connection to an RF reference	<5·10^-13 at 1 s or same as reference
Stability with connection to an optical reference	<1·10^-16 at 1 s or same as reference
Tuning range of comb spacing	>0.7 MHz
Tuning range of offset frequency Fceo	>100 MHz
Optical outputs	2 or 4 fiber-coupled output ports or collimated free-space outputs at 1560 nm, 520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request (optional)
Central wavelength (fixed)	1560±10 nm
Full spectral coverage (with additional options)	520-1000 nm, 1000-2200 nm, other wavelengths upon request
Output power	>5 mW from each output; >250 mW @ 1560 nm (optional); >200 mW @1000-2200 nm (optional); >80 mW @ 520-1000 nm (optional)
Optical unit dimensions (L x W x H)	356 x 492 x 110 mm
Control rack dimensions (W x L)	640 x 553 mm (rack height depends on exact configuration)