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KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列

品牌：北京燕京電子
型號： UV-KUB系列
產(chǎn)地：歐洲法國
供應(yīng)商報價：面議

北京燕京電子有限公司更新時間：2023-03-06 10:34:29

銷售范圍售全國

入駐年限第6年

營業(yè)執(zhí)照已審核

同類產(chǎn)品PMDS芯片制備系統(tǒng)(8件)

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產(chǎn)品特點

法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理zuida直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設(shè)計，保證了光源的準直性和均勻性，其zui小分辨率可達2μm，zuida發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

詳細介紹

KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列

圖片

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簡介

法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實驗臺上，能夠處理最大直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨的冷卻單元。另外，UV-KUB系列先進的設(shè)計，保證了光源的準直性和均勻性，其最小分辨率可達2μm，最大發(fā)散角小于2°

本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。

規(guī)格參數(shù)

項目	UV-KUB 2	UV-KUB 3
最小分辨率	2 μm	2 μm
光源波長	365 nm / 385 nm / 405 nm	365 nm
能量密度	25 mW / cm2 ± 10 %	30 mW / cm2 ± 10 %
熱效應(yīng)最大升溫	< 1°C	< 1°C
曝光時間	1s~18 hours	1s~18 hours
最大存儲程序數(shù)量	10個	無限制
對準分辨率	/	< 3 μm
外形尺寸	260 x 260 x 260 mm3	480 x 480 x 480 mm3
重量	8.2 kg	55 kg
顯示屏	彩色觸摸屏5.7 inches	彩色觸摸屏15.6 inches