技術(shù)參數(shù)：

火焰分析

• 特征濃度（Cu）： 0.02ug/ml/1%

• 檢出限（Cu）： 0.005ug/ml

• 精密度： RSD≤0.5%

• 燃燒器： 金屬鈦燃燒器(100mm)

• 噴霧器： gao效玻璃霧化器 /gao效陶瓷霧化器

• 霧化室： 耐腐蝕材料霧化室

• 位置調(diào)節(jié)： 火焰燃燒器高度自動調(diào)節(jié)

• 安全措施： 燃?xì)庑孤?，空氣欠壓，異常滅火，未水封自動?bào)警和自動安全保護(hù)，舞化室自動泄壓，空氣常開

石墨爐分析

• 火焰/石墨爐自動切換 獨(dú)立的石墨爐系統(tǒng)，無需切換

• 特征量（Cd）： ≤0.4pg

• 檢出限（Cd）： ≤0.5pg

• 精密度：對鎘Cd、對銅Cu RSD≤2%

• 原子化升溫方式： 光控、時(shí)控、一般升溫

• 升溫范圍： 室溫-3000?C

• zui大升溫速率： 2000?C/s

• 安全措施： 冷卻水流量，保護(hù)氣壓力，爐體溫度，石墨管安裝自動報(bào)警和安全保護(hù)

背景校正

• 氘燈背景校正 自動光學(xué)平衡，校正能力 ≥50倍（1Abs）

• 自吸背景校正 智能平衡，校正能力 ≥100倍（1Abs），≥80倍以上校正能力（2Abs）可校正2A以上的扣背景誤差≤2%

石墨爐自動進(jìn)樣器

• 樣品位： 87個(gè)

• 標(biāo)準(zhǔn)杯容積： 2 ml樣品 、6 ml 改進(jìn)劑

• 基體改進(jìn)劑數(shù)目： 3 種

• 注射器進(jìn)樣系統(tǒng)： 500 ul

• 進(jìn)樣體積： 1 - 100 ul

• 進(jìn)樣精度： ±0.2 ul

• 功能： 自動加入基體改進(jìn)劑；自動配置并建立校正曲線；全智能化自動稀釋；多次重復(fù)進(jìn)樣富集和熱注射；自動化除殘，消除交叉污染，同時(shí)由微機(jī)控制的不同容積連續(xù)吸入空氣隔離，防止了原液的污染；智能化調(diào)節(jié)取樣和進(jìn)樣的深度和速度。

• 數(shù)據(jù)處理
  濃度計(jì)算方式： 標(biāo)準(zhǔn)曲線法（6種線性或非線性曲線） 、標(biāo)準(zhǔn)加入法、內(nèi)插法

• 重復(fù)測量次數(shù)： 1-30次

• 數(shù)理統(tǒng)計(jì)計(jì)算平均值，給出標(biāo)準(zhǔn)偏差和相對標(biāo)準(zhǔn)偏差， 同時(shí)給出吸光度和濃度兩種統(tǒng)計(jì)結(jié)果

• 其他特點(diǎn) 儀器設(shè)置： 一鍵完成所有儀器參數(shù)和計(jì)算參數(shù)設(shè)置； 三種工作模式： 用戶自定義方法調(diào)用、繼續(xù)上次測量、廠家推薦方法
  元素切換： 無光學(xué)誤差快速切換 ；選配附件 氫化物發(fā)生器，循環(huán)冷卻水器

主要特點(diǎn)：

分光系統(tǒng)

• 光學(xué)系統(tǒng)： 消象差C-T型

• 光路系統(tǒng)： 單/雙光束

• 波長范圍： 190.0-900nm自動調(diào)整

• 波長準(zhǔn)確度：±0.20nm(系統(tǒng)自動校正)

• 波長重復(fù)性：±0.05nm

• 光譜帶寬： 0.1，0.2，0.4、0.7，1.4、2.0nm 自動切換

• 分辨率： 0.1nm 可分辨錳三線（279.5 nm和279.8nm線峰谷≤25%）

基線漂移：

• 靜態(tài)（Cu） ±0.003Abs/30min

• 動態(tài)（Cu） ±0.003Abs/30min

• 燈架規(guī)格： 8燈架自動定位，三維自動調(diào)節(jié)