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Alemnis電鏡專用原位納米壓痕儀

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產(chǎn)品特點(diǎn)

瑞士Alemnis公司的原位納米壓痕儀適用于掃描電子顯微鏡(SEM)的原位測量,也可用于同步輻射裝置和光學(xué)顯微鏡的常規(guī)環(huán)境中使用。

詳細(xì)介紹


瑞士Alemnis公司位于風(fēng)景秀麗的瑞士圖恩,它是瑞士聯(lián)邦材料科學(xué)與技術(shù)研究所(EMPA)的獨(dú)立子公司,于2008年成立。依托于EMPA的強(qiáng)大研發(fā)能力和技術(shù)支撐,Alemnis公司專注于原位納米壓痕儀的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)。


瑞士Alemnis公司的原位納米壓痕儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊,功能多樣的儀器,可與眾多測試和成像設(shè)備集成,并可用于多種不同的應(yīng)用場景。


瑞士Alemnis公司的原位納米壓痕儀適用于掃描電子顯微鏡(SEM)的原位測量,也可用于同步輻射裝置和光學(xué)顯微鏡的常規(guī)環(huán)境中使用。


這款原位納米壓痕儀是市場上一款能夠提供真正形變控制模式的儀器,可為許多材料測試和各種應(yīng)用領(lǐng)域提供無與倫比的靈活性、準(zhǔn)確性和真正的原位納米機(jī)械性能測試。


Alemnis的納米壓痕儀可經(jīng)過改裝,升級模塊后,可在高剪切應(yīng)變下進(jìn)行動態(tài)機(jī)械性能測試,并可在超高溫條件下進(jìn)行測試。


技術(shù)規(guī)格:

?  Primary indentation mode: True displacement

?  Customizable software

?  Standalone instrument, operating in SEM or in ambient

?  Maximum indentation load: 0.5 N (standard) and 2.5 N (optional)

?  Indentation load RMS noise: 4 μN(yùn)* (0.5 N range) and 20 μN(yùn)* (2.5 N range)

?  Maximum indentation depth: 40 μm

?  Indentation depth RMS noise: 1 nm*

?  XY closed loop sample micro-positioning system with 26 mm range

?  Z closed loop indenter tip micro-positioning system with 22 mm range

?  XYZ micro-positioning system resolution: 1.2 nm

?  Maximum recommended test area: 10 x 10 mm

?  Heating/Coo領(lǐng) Options: -120°C up to 1000°C

?  Strain Rate Options: controlled strain rate up to 10’000 s-1 **

?  Weight:  500 g



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