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ASI J200 LA 激光剝蝕進樣系統(tǒng)

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詳細介紹

簡介
美國應用光譜公司(AppliedSpectraInc.)專注研究激光剝蝕和光譜分析技術的高技術公司。研發(fā)人員均為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的研究人員。公司總裁RichardRusso博士為美國勞倫斯伯克利國家實驗室的ZS科學家,從事激光剝蝕及激光光譜元素分析技術三十多年,創(chuàng)造性的將激光剝蝕技術(LaserAblation,LA)及激光誘導擊穿光譜(LaserInducedBreakdownSpectroscopy,LIBS)相融合,研發(fā)了J200系列激光剝蝕進樣系統(tǒng)及光譜分析系統(tǒng)。
J200納秒激光剝蝕進樣及激光誘導擊穿光譜復合系統(tǒng)實現了LIBS與LA-ICP-MS的同時測量,并具備多種測量功能:可測量常量,微量和同位素(與ICP-MS串聯);分析有機元素及輕元素;元素三維空間分布;校正ICP-MS質譜信號。主要用于地質礦物,土壤,植物,合金,新能源材料(例如鋰電池材料),刑偵證據等樣品的剝蝕進樣及化學成分分析。
J200 LA 激光剝蝕進樣系統(tǒng)可與市面上的四級杠質譜儀,飛行時間質譜儀和高分辨質譜儀串聯使用。

J200 LA 激光剝蝕進樣系統(tǒng)特色
高穩(wěn)定Q開關,短脈沖Nd:YAG激光 ,可選擇多波長<5nsecat213nm ,創(chuàng)新的模組化設,為獨立 LA,LIBS,LA-LIBS復合的系統(tǒng)設計 ,因分析需求,提供三種LIBS檢測器選擇 ,激光剝蝕均勻且一致性的LA系統(tǒng)
自動樣品高度調整功能

J200激光剝蝕進樣系統(tǒng)采用ASIZL技術:剝蝕導航激光和樣品高度自動調整傳感器相結合,解決了若樣品表面凹凸不平而剝蝕不均、導致元素含量值誤差大的問題;激光能量穩(wěn)定閥確保了到達樣品表面的激光能量均勻,使所有采樣點的激光燒蝕均勻一致;3-D全自動操作臺最大行程可達100mmx100mmx36mm,XY行程分辨率0.2μm,Z行程分辨率0.1μm,優(yōu)于其它任何同類產品

穩(wěn)定激光能量的光閘設置

高分辨雙CMOS相機系統(tǒng),可用于寬視野觀測樣品表面特征應用光譜公司的Flex樣品室內置氣體模組可優(yōu)化氣流和顆粒清潔能力,滿足不同測量要求,先進的微集氣管設計,可盡可能的減少排氣,防止集結剝蝕顆粒,消除記憶影響。
雙通道高精度質量流量控制器和電子控制閥
AxiomLA軟件系統(tǒng)
軟件可整合控制硬件組件及ICP-MS同pu步操作,輕松實現繁雜的激光采樣與分析模式 ,強大的數據分析工具用于繁雜的 LA-ICP-MS串聯光譜分析

靈活的分析方法:全分析,夾雜物分析,斑點分析,深度分析和元素分映像
維護成本低

可擴充升級LALIBS復合系統(tǒng)
可擴充升級飛秒LA系統(tǒng)

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