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JEOL場發(fā)射電子探針顯微分析儀JXA-iHP200F
- 品牌:日本電子
- 型號: JXA-iHP200F
- 產(chǎn)地:亞洲 日本
- 供應商報價:面議
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
更新時間:2025-05-28 09:07:08
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銷售范圍售全國
入駐年限第7年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品日本電子 JEOL 掃描電鏡(35件)
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- JEOL場發(fā)射電子探針顯微分析儀JXA-iHP200F 核心參數(shù)
產(chǎn)品特點
- JXA-iHP200F 場發(fā)射電子探針顯微分析儀, 在保持高局部微量元素分析性能的同時,追求每個人都能簡單快速地使用好儀器。該儀器能更加有效地進行觀察分析和操作,是更先進的一體化集成FE-EPMA。
詳細介紹
JXA-iHP200F 場發(fā)射電子探針顯微分析儀
JXA-iHP200F在保持高局部微量元素分析性能的同時,追求每個人都能簡單快速地使用好儀器。該儀器能更加有效地進行觀察分析和操作,是更先進的一體化集成FE-EPMA。
產(chǎn)品規(guī)格:
檢測元素范圍:
WDS: Be*1 / B to U,
EDS: Be to U
檢測X-ray 范圍:
波長范圍WDS: 0.087 to 9.3 nm
能量范圍EDS: 20 keV
譜儀數(shù):WDS: 最多5個可選, EDS: 1個
最大樣品尺寸:100 mm × 100 mm × 50 mm (H)
加速電壓:1 to 30 kV (0.1 kV steps)
探針電流范圍:1 pA to 3 μA
探針電流穩(wěn)定性:± 0.3% / h, ± 1.0% /12 h*2
二次電子像分辨率(觀察模式):2.5 nm
二次電子像分辨率(分析模式下):
20 nm( 10 kV, 10 nA)
50 nm( 10 kV, 100 nA)
掃描放大倍率:×40 to 300,000 (W.D. 11 mm)
掃描圖像分辨率:Maxium 5,120 × 3,840
產(chǎn)品特點:
電子探針顯微分析儀在鋼鐵、汽車、電子零件和電池材料等各種工業(yè)領域,作為研究開發(fā)和品質(zhì)保證的分析工具被廣泛使用,其用途越來越廣。此外,在學術領域 ,地球空間科學、材料科學領域也在廣泛使用,礦物等資源能源研究、各種新型材料研究等,期待在各種各樣前沿研究中做出貢獻。與此相應,在保持高局部微量元素分析性能的同時,追求每個人都能簡單快速地使用好儀器。JXA-iHP200F能更加有效地進行觀察分析操作,是更先進的一體化集成場發(fā)射EPMA。
* EPMA是Electron Probe Microanalyzer簡稱
◇ [Setting]
自動定位,準確安裝樣品臺!迅速找到想觀察的點!
進樣和獲取樣品臺導航像一鍵完成。從導航像能夠指定分析區(qū)域。
◇ [Analysis]
充分的自動功能,誰都可以拍到高級的SEM像
繁瑣的設定也能對應,EPMA立馬進行元素分析
光學顯微鏡的自動聚焦功能與配備高精度/高速化新系統(tǒng)的SEM自動功能相結(jié)合,任誰都可以拍到高級的SEM像。
【live Analysis】
通過【live Analysis】能夠在觀察中進行篩選分析。初學者也能操作的【簡單的EPMA】。
用【EPMA-XRF integration】在XRF數(shù)據(jù)的基礎上能夠進行EPMA的條件設定。用【W(wǎng)D/ED integration】能夠縮短分析時間。SEM、EDS、XRF、WDS、光學像的集成一體化提高了儀器的操作性能。
通過WD/ED integration,分析時間縮短的例子
integration:用這些儀器推定的元素在一體化EPMA上可以一鍵設定分光晶體的組合
◇ [Self Maintenance]
內(nèi)置18種類校正樣品,有效進行校正
配置【分光器校正功能】減輕了定期進行分光器校正的作業(yè)而且也避免了校正樣品設定時的人為失誤;利用夜間對儀器進行校正,提高了工作效率。
按照【維護通知功能】,在必要時期對儀器進行自我維護,保持設備最佳狀態(tài)。
維護通知功能【客戶支持工具】
◇ 標配場發(fā)射電子槍
能夠在高倍率下獲得高空間分辨率的SEM像和分析結(jié)果。在大電流下保持長時間穩(wěn)定的熱電子槍在短時間內(nèi)分析微量元素的時候、整夜運行分析大量樣品的時候顯示出它的威力。
加速電壓 | 詳見資料 | 放大倍數(shù) | 詳見資料 |
分辨率 | 詳見資料 | 抽真空時間 | 詳見資料 |
真空度 | 詳見資料 |
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