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江蘇磐石小型磁控濺射鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品特點(diǎn)

PS-200單靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由真空室、磁控靶、旋轉(zhuǎn)基片架、真空系統(tǒng)、機(jī)架、電器控制等幾大部分組成??捎脕?lái)制備導(dǎo)電膜、金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、多層膜等。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小適合高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所。

詳細(xì)介紹

設(shè)備簡(jiǎn)介

PS-200單靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由真空室、磁控靶、旋轉(zhuǎn)基片架、真空系統(tǒng)、機(jī)架、電器控制等幾大部分組成??捎脕?lái)制備導(dǎo)電膜、金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜、多層膜等。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小適合高校實(shí)驗(yàn)室及科研院所。

環(huán)境要求
供電:AC220V,功率≥20KVA
獨(dú)立地線:<3Ω,從設(shè)備到地線連接建議采用≥10mm2 的扁平銅線
供水:流量≥10L/min       水溫0~25℃
室溫:<30℃
相對(duì)濕度:<75%
高純氬氣
室內(nèi)無(wú)腐蝕易燃、易爆、有毒氣體,無(wú)大的塵埃。

技術(shù)參數(shù)

真空室尺寸(內(nèi)徑X高)Ф200×200mm
極限真空2X10-4 Pa
恢復(fù)工作真空從大氣抽至8X10-4 Pa,≤40min
工作真空≤6X10-1Pa
升壓率≤8X10-1Pa/h
基片架旋轉(zhuǎn)速度2~20rpm可調(diào)
靶-片距80~120mm
真空系統(tǒng)分子泵:FF63/80 型  62 L/S

機(jī)械泵:TRP-12型     3L/S
總功率20KVA
設(shè)備占地尺寸800X800


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